天津赫普菲乐新材料有限公司
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CMP抛光液添加剂
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化学抛光液添加剂

       化学机械抛光 (CMP)过程中抛光液是极其重要的材料,配方要求对氧化物粉体有良好的分散悬浮作用,同时由于机械抛光过程是比表面积不断变化的过程,保持对表面的良好润湿是保证化学氧化效果的关键,涂易乐用于CMP抛光液配方将提供有益的帮助。

涂易乐表面活性剂

    涂易乐表面活性剂能够显著降低抛光液的动态表面张力,保证抛光液对硅片表面的良好润湿,确保液体与表面的充分接触,同时由于涂易乐表面活性剂的低泡或消泡特性也防止微泡在硅片表面停留而影响抛光效果。涂易乐FS-600superwet-300系列表面活性剂是用于抛光液的重要表面活性剂。

涂易乐分散剂

    涂易乐分散剂对氧化物颗粒保持持久的悬浮分散,保证抛光液体系的均匀稳定,防止粉体沉降。涂易乐®DS-1702/DS-1705/DS-1708均是用于抛光液的良好分散剂。

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